磁控濺射鍍膜設(shè)備

時間：2022-02-28作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：169

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• 詞條

  詞條說明

• 真空鍍膜設(shè)備由哪些部分構(gòu)成

  真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的設(shè)備，目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍膜行業(yè)。但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構(gòu)成部分，接下來讓我們一起來認(rèn)識一下真空鍍膜機(jī)的主要構(gòu)成部分。其中有：真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動部分、加熱及測溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷系統(tǒng)。1、真空室涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧

• PVD涂層對工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層，工件需經(jīng)研磨或拋光，并針對運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM（

• 多弧離子真空鍍膜技術(shù)特點(diǎn)

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來， 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體，其中離子之間

• 真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備

  真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、**的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝潢裝飾，燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領(lǐng)域。磁控濺射鍍膜設(shè)備及技術(shù)可以再金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應(yīng)物（氧化物、氮化物、炭化物）、