等離子處理機(jī)，清潔活化，激活材料

時(shí)間：2022-03-31

作者：煙臺金鷹科技有限公司

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詞條
詞條說明
等離子清洗機(jī)，去除Wafer晶圓光刻膠
等離子清洗機(jī)去除Wafer晶圓表面光刻膠，等離子清洗機(jī)用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強(qiáng)電場作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機(jī)的去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點(diǎn),而且等離子清洗機(jī)不用酸、堿及有機(jī)溶劑等。等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等
生產(chǎn)生活中為何要使用水處理設(shè)備
由于工業(yè)污染的嚴(yán)重性，我們經(jīng)常飲用的水經(jīng)過了多種清潔、殺菌消毒手段，經(jīng)出廠水質(zhì)監(jiān)測能夠達(dá)到國家衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，在經(jīng)過漫長的管道和二次加壓的水箱，流入千家萬戶。1、生活中：流入住戶前，漫長的管道經(jīng)過了復(fù)雜地形和道路，有些管道年久失修，有限水管與污水管交叉，樓里的一些水管甚至先要經(jīng)過廁所，才能夠到達(dá)廚房。因?yàn)樗芩闹艿臐B漏和二次加壓水箱很少清理消毒，水箱里不可能一塵不染，以及水管中的鐵銹等諸多原因會造成對水
plasma等離子清洗機(jī)的應(yīng)用及優(yōu)勢
plasma等離子體清洗設(shè)備的原理等離子體清洗設(shè)備，是通過等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的清洗設(shè)備，又稱低溫等離子體處理機(jī),等離子處理器,等離子處理儀,低溫等離子表面處理機(jī),等離子處理設(shè)備，等離子體處理設(shè)備，電漿清洗機(jī)，電漿處理機(jī)，plasma處理機(jī)，plasma清洗機(jī)，等離子清洗器，等離子清洗儀，等離子刻蝕機(jī)，等離子去膠機(jī)，等離子體清洗機(jī)，等離子體清洗器，等離子體清洗設(shè)備。
等離子處理機(jī)對封裝材料的清洗和活化
等離子清洗機(jī)用在印刷預(yù)處理、粘接預(yù)處理、焊接預(yù)處理、封裝預(yù)處理等等工藝上，等離子清洗機(jī)來說主要是就是用來清洗肉眼看不到的污染物，并使得產(chǎn)品表面活化，提高其親水性。在半導(dǎo)體封裝的生產(chǎn)過程中,由于指印、助焊劑、各種交叉污染、自然氧化等,器件和材料表面會形成各種沾污,包括有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、焊料、金屬鹽等。這些沾污會明顯地影響封裝生產(chǎn)過程中的相關(guān)工藝質(zhì)量。使用等離子體清洗機(jī)可以很容易清除掉生產(chǎn)過程