詞條
詞條說(shuō)明
探測(cè)器 依分辨率高低檔次由低**常用的探測(cè)器有NaI晶體閃爍計(jì)數(shù)器,充氣(He,Ne,Ar,Kr,Xe等)正比計(jì)數(shù)管器、HgI2晶體的探測(cè)器、半導(dǎo)體致冷SiPIN探測(cè)器、高純硅晶體的探測(cè)器、高純鍺晶體的探測(cè)器、電致冷或著液氮致冷Si(Li)鋰漂移硅晶體的探測(cè)器、Ge(Li)鋰漂移鍺探測(cè)器等。 目前常用的是電致冷或液氮致冷Si(Li)鋰漂移硅晶體的探測(cè)器、SiPIN探測(cè)器、高純的硅晶體探測(cè)器。探測(cè)器
AF等離子噴涂機(jī)的特點(diǎn)介紹1、設(shè)備采用原裝德國(guó)進(jìn)口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計(jì),使液態(tài)分子較精細(xì),且不影響藥水效果。2、恒定流量控制系統(tǒng),保證藥水平穩(wěn)恒定的供流,而非波浪線式供流,較大程度的解決白霧現(xiàn)象。3、精確控制噴涂藥量,提高藥水的霧化能力,使膜層與玻璃能均勻的結(jié)合,提高產(chǎn)品噴涂的均勻性,增大膜層表面爽滑度。4、噴嘴運(yùn)動(dòng)速度及輸送線速度均可調(diào),較大的提高生產(chǎn)效率,滿足各種用戶需求。5、
殘余應(yīng)力儀原理是什么?1、X射線衍射法測(cè)量殘余應(yīng)力的原理:基于著名的布拉格方程2dsinθ=nλ :即一定波長(zhǎng)的X射線照射到晶體材料上,相鄰兩個(gè)原子面衍射時(shí)的X射線光程差正好是波長(zhǎng)的整數(shù)倍。通過(guò)測(cè)量衍射角變化Δθ從而得到晶格間距變化Δd,根據(jù)胡克定律和彈性力學(xué)原理,計(jì)算出材料的殘余應(yīng)力。2、盲孔法測(cè)量殘余應(yīng)力的原理:假設(shè)一個(gè)各向同性材料上某一區(qū)域內(nèi)存在一般狀態(tài)的殘余應(yīng)力場(chǎng),其較大、較小主應(yīng)力分別為
一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率;二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害,同時(shí)也避免了濕法清洗中*洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題;三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在**高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;四、采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離
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